反渗透设备常见污染物及其去除方法有哪些
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1.硫酸钙垢
清洗液2是将硫酸钙垢从反渗透膜表面去除掉的X佳方法。
2.金属氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸钙垢的方法,很容易地去除沉积下来的氢氧化物(例如氢
氧化铁)。
3.硅垢
对于不是与金属氧化物或有机物共生的硅垢,一般只有通过专门的清洗方法才能将他
们去除,
4.碳酸钙垢
在阻垢剂添加系统出现故障时或加酸系统出现故障而导致给水PH值升高,那么碳酸钙
就有可能沉积出来,应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生,以防止生长的晶体对膜表面产生损
伤,如早期发现碳酸钙垢,可以用降低给水PH至3.0~5.0之间运行1~2小时的方法去除。
对沉淀时间更长的碳酸钙垢,则应采用柠檬酸清洗液进行循环清洗或通宵浸泡。
注:应确保任何清洗液的PH值不要低于2.0,否则可能会对RO膜元件造成损害,特别
是在温度较高时更应注意,X高的PH不应高于11.0。可使用氨水来提高PH,使用硫酸或
盐酸来降低PH值。
5.有机沉积物
有机沉积物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除,为了防止再繁殖,可使用
经认可的杀菌溶液在系统中循环、浸泡,一般需较长时间浸泡才能X,如反渗透装置
在正常压力下如产品水流量降至正常值的10–15%。
为了维持正常的产品水流量,经温度校正后的给水压力增加了10–15%。
产品水质降低10–15%;盐透过率增加10–15%。
使用压力增加10–15%。
RO各段间的压差增加明显(也许没有仪表来监测这一迹象)。
停用X过三天时,X好采用消毒处理,请与海德能公司会商以确定适宜的杀菌剂。
6.清洗液
清洗反渗透膜元件时建议采用表2所列的清洗液。确定清洗液前对污染物进行化学分
析是十分重要的,对分析结果的详细分析比较,可保证选择X佳的清洗剂及清洗方法,应
记录每次清洗时清洗方法及获得的清洗效果,为在特定给水条件下,找出X佳的清洗方法
提供依据。
对于无机污染物建议使用清洗液1。对于硫酸钙及有机物建议使用清洗液2。对于严重
有机物污染建议使用清洗液3。所有清洗液可以在X高温度为华氏104度(40℃)下清洗60分
钟,所需药品量以每100加仑(379升)中加入量计,配制清洗液时按比例加入药品及清洗用
水,应采用不含游离氯的反渗透产品水来配制溶液并混合均匀。
要注意以下几个问题
1.在任何情况下不要让带有游离氯的水与复合膜元件接触,如果发生这种接触,将会
造成膜元件性能下降,而且再也无法恢复其性能,在管路或设备杀菌之后,应确保送反渗
透膜元件的给水中无游离氯存在。在无法确定是否有游离氯时,应通过化验来验证。应使
用亚硫酸氢钠溶液来中和残余氯,并确保足够的接触时间以保证反应完全。
2.在反渗透膜元件担保期内,建议每次反渗透膜清洗应在与协商后进行,至少在X一
次清洗时,海德能公司的现场服务人员应在现场。
3.在清洗溶液中应避免使用阳离子表面活性剂,因为如果使用可能会造成膜元件的不
可逆转的污染。
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