高精密平面研磨和抛光原理及工艺简介:
高精密平面研磨和抛光是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盘基面上相对运动,使工件表面变得非常高的平整度及光滑度,工件固定不需要强夹、真空、磁铁,只是自然地放置在磨盘上,基本上能适合加工任何金属和非金属材料的工件,没有了强制性的装夹及一般磨床的刚性磨削,减少的了冲击及发热产生的次生变形,更用利于高精度和高光洁度的加工。即使一个没有经验的操作员也可以轻易获得X佳0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。
精创厚德公司多年来着力于单、双平面研磨机/平面抛光机高精密平面研磨和抛光技术的研究与开发,希望能与广大用户分享丰富的工艺经验与技术成果。