目的是用以去除由装运容器产生的杂质和聚合物不稳定产生的胶体粒子。为什么要专门针对这些胶体粒子进行处理呢?专家表示这些胶体粒子在高压下能通过多空过滤器,因而更难过滤。光敏抗蚀剂在使用点过滤对于提高成品率至关重要。这种应用的理想过滤器应能去除大于其孔径的粒子,且不增加污染物(粒子或可萃取物)。由于大多数光敏抗蚀剂溶液含有好的聚合物溶剂,因此全部采用氟聚合物结构的滤器为佳。由于邢威滤芯装置生产期间晶片要用去除粒子水冲洗几次,因而在生产过程中它要与100~100dm3去离子水相接触。由于重复操作,去离子水的质量对于半导体生产的成功操作也至关重要。在邢威滤芯制造用水方面,微过滤设备是去离子水循环系统的主要组成设备。