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SGN锂电池X纳米氧化镁研磨分散机能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到全方位的清洗。
纳米氧化镁是一种新型纳米微粒材料,外观白色粉末,纯度高、比表面积大,由极细的晶粒组成,无毒、无味、分散性好,相对密度约3.58(25℃)。熔点2852℃,沸点3600℃.难溶于水,不溶于醇,溶于酸或铵盐溶液中。纳米X氧化镁具有明显的小尺寸效应、表面效应、量子尺寸效应和宏观隧道效应,经改性处理,无团聚现象,在光学、催化、磁性、力学、化工等方面具有许多特异功能及重要应用价值,前景非常广阔,是21世纪重要新材料。
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技术指标:
项目 | 指标 |
型号 | DC-MgO-002 |
氧化镁% | 99.9 |
粒径 | 30nm |
钙ppm< | 3 |
氯化物ppm< | 3 |
铁ppm< | 3 |
灼烧失量%,< | 0.3 |
比表面m2/g | 60-100 |
在锂电池中的应用特性
1.在锂电池中的应用
在锂离子蓄电池正极材料中添加适量的纳米氧化镁,所得正极材料拥有大于140mAh/g的可逆放电容量,且循环性能良好。在正极材料中使用可以提高导电性,建议添加量0.3-0.5%
2.锌镍蓄电池中的应用
通过物理混合的方法在锌负极活性物质中掺入氧化镁,可减少充放电极化、减少循环后期的内阻、提高负板活性物质利用率、延长电池循环寿命,适宜添加量为1.0%wt的氧化镁,且添加量不宜X过2.0%。
3. 高氯化锌电池中的应用
在正极活性物质中添加少量的氧化镁可以调节电液酸度,减缓自放电,抑制电池气胀,提高贮存性能,且对提高放电容量及促进浆层糊化有X特的效果。建议添加量0.5-1%,并调节合适的PH值。
4. 镉镍蓄电池中的应用
在镉电极中添加适量的氧化镁、氧化锌和氧化铁可提高活性物质利用率;添加氧化镁,三氧化二铟和氧化锌,可提高密封镉镍蓄电池的荷电保持能力
锂电池X纳米氧化镁研磨分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
X一X由具有精细度递升的三X锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每X都可以改变方向。
X二X由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是X转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验X工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
GMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
锂电池X纳米氧化镁研磨分散机的特点:
1、线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三X锯齿突起和凹槽。
3、定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、在增强的流体湍流下,凹槽在每X都可以改变方向。
5、高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
设备其它参数:
设备等X:化工X、卫生IX、卫生IIX、无菌X
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择:380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件:PTC热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304、SUS316L、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:
1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)
2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、X细齿、越细齿效果越好)
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)
5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)
线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率(s-1) =v 速率(m/s)
g定-转子 间距(m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
SGN定-转子的间距范围为0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X转速RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,X高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得X细微悬浮液是zui重要的
GMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%