上海思峻机械设备有限公司
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头孢克洛混悬液胶体磨有很高的线速度，以及特殊上深下浅的三X磨头结构，一次处理即可满足细化要求。*X刀头形状，可以把相对大块的物料进行初步粉碎，以便能顺利通过更细的两X进行细微化研磨。
混悬液胶体磨X点：
•结合X良的研磨效果的高吞吐量
•定制不同的研磨刀头，实现多种研磨剪切速率
•为减少颗粒大小的控制，可无限调整定子/转子之间的间隙设置
•SGN胶体磨与生产系统的密实度作为机器联机设计的结果。
•适合于粘度高达50,000mPas的各种粘度范围的物料
•能在高达16bar的压力下操作
•所有接触液体的部件为316L或316Ti不锈钢
•具有耐磨材料的高性能机械密封密封
•高质量的表面处理，便于清洗
•可根据要求提供其他材料和表面处理
•机器可自动排水，具有CIP和SIP功能
•噪音低
•根据符合EHEDG（欧洲卫生工程设计集团）准则制造
•符合3A卫生和认证
•根据需要提供制药
•根据提供的ATEX95指导方针执行防爆
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
GM2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
GM2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
GM2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
GM2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
GM2000系列头孢克洛混悬液胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三X锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每X都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
