苏州伟志水处理设备有限公司
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无锡半导体芯片X纯水设备|半导体晶片纯水设备
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单晶硅生产用X纯水设备概述
苏州伟志水设备有限公司研发并生产的单晶硅生产用X纯水设备是根据其客户用水的特殊要求设计而生产的新型水处理设备，用户可以根据自己的实际用水量调整设备的产水流量大小，以及设备配置的高低。单晶硅、半导体等行业生产用X纯水设备采用X的反渗透、EDI电渗析与离子交换相结合的技术，克服了单一水处理工艺技术的缺陷。同时单晶硅、半导体生产所用X纯水设备采用了微电脑式触摸屏+PLC智能化控制，实现了实时在线显示各X工艺水质参数，故障报警等功能、操作起来十分方便。
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X纯水设备
单晶硅生产用X纯水设备工艺流程
1、采用离子交换方式，其流程如下：
原水→原水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→钠离子软化器→精密过滤器→反渗透工艺→EDI电渗析工艺→混床处理工艺→精密过滤器→客户用水点
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X纯水处理设备
单晶硅生产用X纯水设备的工艺要求
1、预处理系统：单晶硅生产用X纯水设备特设了三X预处理系统。特别适合自来水盐度高、硬度大、固体杂质较多、氯含量较高地区的客户，使用极其方便、经济。该系统采用了“层层保护、逐X过滤”的X设计理念。
2、反渗透系统：采用海德能高透水率的反渗透RO膜、该反渗透膜具有X筛分功能，透水量稳定等功能，在系统既定压力下，能精密滤除水中的细菌、病毒、盐类及各种微小物质。脱盐率≥99%。为了增加反渗透系统的使用寿命、该系统中配套设置了自动清洗、自动加药等功能，X预防反渗透膜结垢堵塞，为设备高效稳定的运行提供了双重保障。
3、X纯化系统：采用X质核X树脂抛光混床，使得水中离子除去率达到99.99%水质电阻率达到18.MΩ.CM以上，满足了半导体、单晶硅等行业的高纯水指标。
