C10200无氧铜密度化工机械设备X铜材
C10200无氧铜由于能够及时清理废件,因此可显著缩短非生产时间。TT前面设置中间冷却当需要采用热机械轧制和/或铁素体轧制艺,以QSP产品大纲中某些钢种(如生产API管线钢或X低碳钢)的生产要求时,需要在粗轧机和输送辊道间配备一个带钢中间冷却,用于在粗轧机出口处将中间坯冷却至目标温度以下,以确轧轧件温度适宜。这样做的好处是:◆通过中间冷却以及安装在加热输送辊道前的温度测量仪,可以准确控制带钢温度;◆由于采用加热输送辊道,可确保中间坯整体保持温度均匀*;◆能够X防止粗轧后轧件内部晶粒组织长大,确保终产品致密的细晶粒组织;◆精轧区不发生奥氏体-铁素体相变;◆确保的轧制条件。轧制线上布置3台高压水除鳞机在整个轧制线上布置有3台高压水除鳞机,可分别根据连铸机出口处(连铸氧化铁皮)、粗轧机入口处(一次氧化铁皮)和精轧机入口处(二次氧化铁皮)氧化铁皮生成状况,采用的除鳞作业,带钢表面。
C10200无氧铜
类别无氧铜
牌号二号无氧铜
代号C10200
化学成分(%)
铜≥99.95
其它
杂质总和≤0.05
用途电真空器件和仪器、仪表用
C10200无氧铜(化学成分) 元素性能一览表:
C10200无氧铜(C) 碳:钢中含碳量,屈服点和抗拉强度升高,但塑性和冲击性,当碳量0.23%X过时,钢的焊接性能变坏,因此用于焊接的低合金结构钢,含碳量一般不X过0.20%。碳量高还会钢的耐大气腐蚀能力,在室外的高碳钢就易锈蚀;此外,碳能钢的冷脆性和时效性。
C10200无氧铜(Si) 硅:在炼钢中加硅作为还原剂和脱氧剂,所以钢含有0.15-0.30%的硅。钢中含硅量X过0.50-0.60%,硅就算合金元素。硅能显著钢的弹性jixian,屈服点和抗拉强度,故广泛用于作弹簧钢。在调质结构钢中加入1.0-1.2%的硅,强度可15-20%。硅和钼、钨、铬等结合,有腐蚀性和氧化的作用,可制造耐热钢。含硅1-4%的低碳钢,具有高的导磁率,用于电器工业做矽钢片。硅量,会钢的焊接性能.
C10200无氧铜(Mn) 锰:在炼钢中,锰是脱氧剂和脱硫剂,一般钢中含锰0.30-0.50%。在碳素钢中加入0.70%以上时就算“锰钢”,较一般钢量的钢不但有足够的韧性,且有较高的强度和硬度,钢的淬性,钢的热加工性能,如16Mn钢比A3屈服点高40%。含锰11-14%的钢有高的耐磨性。
C10200无氧铜(S) 硫:硫在通常情况下也是有害元素。使钢产生热脆性,钢的延展性和韧性,在锻造和轧制时造成裂纹。硫对焊接性能也不好,耐腐蚀性。所以通常要求硫含量小于0.055%,X质钢要求小于0.040%。在钢中加入0.08-0.20%的硫,可以切削加工性,通常称易切削钢。
C10200无氧铜(Ni) 镍:镍能钢的强度,又保持良好的塑性和韧性。镍对酸碱有较高的耐腐蚀能力,在高温下防锈和耐热能力。由于镍是较稀缺的资源,故应尽量采用其他合金元素代用镍铬钢。
C10200无氧铜(Cr) 铬:在结构钢和工具钢中,铬能显著强度、硬度和耐磨性,但同时塑性和韧性。铬又能钢的氧化性和耐腐蚀性,因而是不锈钢,耐热钢的重要合金元素。
C10200无氧铜(Mo) 钼:钼能使钢的晶粒细化,淬透性和热强性能,在高温时保持足够的强度和蠕变能力(长期在高温下受到应力,发生变形,称蠕变)。结构钢中加入钼,能机械性能。 还可以合金钢由于火而引起的脆性。在工具钢中可红性。
C10200无氧铜(Ti) :钛是钢中强脱氧剂。能使钢的内部组织致密,细化晶粒力;时效性和冷脆性。焊接性能。在铬18镍9奥氏体不锈钢中加入适当的钛,可避免晶间腐蚀。
C10200无氧铜(V) :是钢的X良脱氧剂。钢中加0.5%的可细化组织晶粒,强度和韧性。与碳形成的碳化物,在高温高压下可氢腐蚀能力。
C10200无氧铜 电子工业是新兴产业,在它欣欣向荣的开展过程中,不断开宣布钢的新产品和新的使用X域。现在它的使用己从电真空器材和印刷电路,开展到微电子和半导体集成电路中。1.电真空器材 电真空器材主要是高频和X高频发射管、波导管、磁控管等,它们需 要高纯度无氧铜和弥散强化无氧铜。2.印刷电路 铜印刷电路,是把铜箔作为表面,粘贴在作为支撑的塑料板上;用照相的方法把电路布线图印制在铜版上;经过浸蚀把剩余的部分去掉而留下相互衔接的电路。然后,在印刷线路板上与外部的衔接处冲孔,把分立元件的接头或其它部分的终端刺进,焊接在这个口路上,这样一个完好的线路便拼装完结了。假如选用浸镀法,一切接头的焊接可以一次完结。这样,关于那些需求精密安置电路的场合,如无线电、电视机,计算机等,选用印刷电路可以节约很多布线和固定回路的劳作;因而得到广泛使用,需求消费很多的铜箔。此外,在电路的衔接中还需用各种多少钱低廉、熔点低、流动性好的铜基钎焊材料。3.集成电路 微电子技术的中心是集成电路。集成电路是指以半导体晶体材料为基片(芯片),选用专门的技术技术将组成电路的元器材和互连线集成在基片内部、表面或基片之上的微小型化电路。这种微电路在结构上比zui紧凑的分立元件电路在尺度和分量上小成千上万倍。它的呈现引起了计算机的巨大革新,成为现代信息技术的根底。现在己开宣布的X大规模集成电路,在比小姆指甲还小的单个芯片面积上,能做出的晶体管数目,己达十万乃至百万以上。zui近,世界闻名的计算机公司IBM(世界商业机器公司),己选用钢替代硅芯片中的铝作互连线,取得了突破性发展。这种用铜的新式微芯片,可以获得30%的效能增益,电路的线尺度可以减小到0.12微米,可使在单个芯片上集成的晶体管数目到达200万个。这就为陈旧的金属铜,在半导体集成电路这个zui新技术X域中的使用,创始了新局面。4.引线结构 为了维护集成电路或混合电路的正常作业,需求对它进行封装;并在封装时,把电路中很多的接头从密封体内引出来。这些引线要求有必定的强度,构成该集成封装电路的支承骨架,称为引线结构。实践加工中,为了高速大批量加工,引线结构通常在一条金属带上按特定的摆放方法接连冲压而成。结构材料占集成电路总本钱的1/3~ l/4,并且用量很大;因而,有必要要有低的本钱。
C10200无氧铜 六角铜棒:对角边长:4.75 5 6 6.35 8 12 12.7 13.5 14 16.1 17 32 42 等等
C10200无氧铜 方棒:厚*宽*长20*35*35 20*45*45 25*35*3525*45*45 30*45*4535*45*4530*45*4535*40*4014*14*14等等
C10200无氧铜 小直排,大圆边直排,拉光板,圆管等。铜管,毛细铜管,铜方棒,白铜扁线,黄铜
C10200无氧铜 扁线,紫铜扁线,紫铜排等。
C10200无氧铜 黄铜排材质:H62、H62、H63、H65、H68、H70、H80、H85、H90、H96、T1、T2、C1100、C5111、C5101、C5191、C5210、TU1、TP1、TP2、TAg0.08、TAg0.1、C1100、C1020、C1201、C1220、C1271、C2100、C2200、C2300、C2400、C2600、C2680、C2700、C2720、C2800、C2801、C3604w等。规格:厚度:1.0-200mm,宽度:305-600mm。硬度:O、1/2H、3/4H、H、EH、SH等