山东伯芯诚真空设备有限公司
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BXCEN-2200扩散炉：适用于扩散（硼扩、磷扩）、氧化、合金、退火等工艺。
扩散炉应用：应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等X域，适用2~8英寸工艺尺寸
扩散炉产品特点：
◆主机为水平一至四管炉系统构架，X立完成不同的工艺或相同工艺
◆扩散炉工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进行自动控制
◆采用悬臂送片器：操作方便、无摩擦污染等
◆扩散炉关键部全部采用进口，确保设备的高可靠性
◆工艺管路采用进口阀门管件组成-气密性好、耐腐蚀、无污染（管路均采用EPX电抛光管路），流量控制采用进口质量流量计
◆扩散炉采用进口温控系统，控温精度高，温区控温稳定性好；
◆具有断电报警、X温报警、极限X温报警等多种安.全保护功能（功能可添加）
◆扩散炉采用进口材质加热炉体，确保恒温区的高稳定性及长寿命
主要技术指标：
1、扩散炉工艺说明
1.1氧化：干氧工艺，湿氧工艺（去离子水、氢氧合成-内/外点火）
1.2扩散：硼扩、磷扩（液态源、固态源等）
1.3合金、退火等工艺
2、扩散炉系统组成：主机（进口加热体、进口石英/SiC管、进口功率组件等)、自动送片（进口悬臂-SiC）净化工作台、气路气源系统（气源柜）、计算机控系统等组成
3、扩散炉控制方式：手动送片/自动送片
4、扩散炉配置（可选）：
4.1扩散炉仪表控制：计算机/触摸屏控制
4.2扩散炉工艺管：（水平结构）1-4管
4.3扩散炉工艺规格：2~6英寸晶圆或125mm×125mm、156mm×156mm太阳能电池片（工艺腔体为石英或碳化硅）
4.4扩散炉恒温区长度：1100mm/800mm/600mm/450mm（可定制）
4.5扩散炉晶圆装载：悬臂式，刚玉/碳化硅杆，碳化硅桨
4.6扩散炉工作台：有净化/无净化
4.7工艺气路：对应的工艺气路，气路阀门组件采用国际X.质品牌产品（如SWAGELOK、PARK、SANDVIK、CARDINAL等等），MFC国际X.质（如MKS、UNIT、STEC等）
5、扩散炉主要技术参数：
5.1工作温度：200～1370℃
5.2扩散炉加热体控制点：3/6点
5.3炉体恒温区：450mm-1100mm（可定制）
5.4扩散炉恒温区精度：＞800℃/±0.5℃ ，＜800℃/±1℃
5.5单点温度稳定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h
5.6扩散炉可控升温速度：15℃/min
5.7扩散炉降温速度：5℃/min（900～1300℃）
5.8供电：三相四线，380VAC/50HZ
6、扩散炉结构尺寸：水平扩散炉/垂直扩散炉
